25pWB-8 低温エピタキシーにおける特有な表面構造に起因した表面ラフニングII

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タイトル別名
  • Surface roughening induced by a characteristic surface structure of a Si grown on Si(111)

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282681013868288
  • NII論文ID
    110002151300
  • DOI
    10.11316/jpsgaiyo.55.2.4.0_802_3
  • ISSN
    21890803
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles

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