404 CVD 蒸着した SiC 膜の冷却時における応力その場測定

• 大谷,眞一

  武蔵工大

• 青木,由雄

  航空宇宙技研

• 永田,好伸

  フタバ産業

• 仲田,靖

  武蔵工大院

収録刊行物

• 学術講演会講演論文集

  学術講演会講演論文集 46 133-134,

  日本材料学会

詳細情報

• CRID: 1543950420077244544
• NII論文ID: 110002285607
• NII書誌ID: AA11881527
• Web Site: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10736427
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • NDL-Digital
  • CiNii Articles