RF-マグネトロンスパッタ法によるBaTiO_3薄膜の結晶構造の変化 Changes in the Crystal Structure of RF-Magnetron Sputtered BaTiO_3 Thin Films

抄録

The crystal structure of BaTiO_3 thin films fabricated by RF-magnetron sputtering has been investigated. As-sputtered films exhibited a cubic structure with a small grain size of about 6-8nm. After annealing at a temperature above 1100℃, the crystal structure changed from cubic to tetragonal, because the annealing process caused grain growth. The critical grain size of the thin films which provided the cubic structure existed in the range of 0.1-0.2 μm. This value agreed well with the critical grain size of BaTiO_3 fine particles, 0.12 μm.

収録刊行物

日本セラミックス協会学術論文誌 : Nippon Seramikkusu Kyokai gakujutsu ronbunshi   [巻号一覧]

日本セラミックス協会学術論文誌 : Nippon Seramikkusu Kyokai gakujutsu ronbunshi 100(1165), 1091-1093, 1992-09-01  [この号の目次]

社団法人日本セラミックス協会

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各種コード

  • NII論文ID(NAID) :
    110002290080
  • NII書誌ID(NCID) :
    AN10040326
  • 本文言語コード :
    ENG
  • 資料種別 :
    雑誌論文
  • ISSN :
    09145400
  • NDL 記事登録ID :
    3784254
  • NDL 刊行物分類 :
    無機化学・無機化学工業--セラミックス
  • NDL 雑誌分類 :
    ZP9(科学技術--化学・化学工業--無機化学・無機化学工業--セラミックス・窯業)
  • NDL 請求記号 :
    Z17-249
  • DOI :
    10.2109/jcersj.100.1091
  • 収録DB :
    CJP引用  NDL  NII-ELS  Journal@rchive