RF-マグネトロンスパッタ法によるBaTiO₃薄膜の結晶構造の変化

• 内野 研二

  上智大学理工学部物理学科

• 李 南良

  上智大学理工学部物理学科

• 鳥羽 環

  上智大学理工学部物理学科

• 臼木 成和

  上智大学理工学部物理学科

• 油谷 英明

  上智大学理工学部物理学科

• 伊藤 由喜男

  上智大学理工学部物理学科

書誌事項

タイトル別名

• Changes in the Crystal Structure of RF-Magnetron Sputtered BaTiO₃ Thin Films
• RF マグネトロン スパッタホウ ニ ヨル BaTiO3 ハクマク ノ ケッシ

抄録

The crystal structure of BaTiO₃ thin films fabricated by RF-magnetron sputtering has been investigated. As-sputtered films exhibited a cubic structure with a small grain size of about 6-8nm. After annealing at a temperature above 1100°C, the crystal structure changed from cubic to tetragonal, because the annealing process caused grain growth. The critical grain size of the thin films which provided the cubic structure existed in the range of 0.1-0.2μm. This value agreed well with the critical grain size of BaTiO₃ fine particles, 0.12μm.

収録刊行物

• Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌)

  Journal of the Ceramic Society of Japan (日本セラミックス協会学術論文誌) 100 (1165), 1091-1093, 1992

  公益社団法人 日本セラミックス協会

キーワード

• RF-magnetron sputtering
• BaTiO₃ thin film
• Annealing process
• Critical grain size
• Phase transition

詳細情報

• CRID: 1390001205276728960
• NII論文ID: 110002290080
• NII書誌ID: AN10040326
• DOI: 10.2109/jcersj.100.1091
• ISSN: 18821022
• ISSN: 09145400
• NDL書誌ID: 3784254
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I3784254
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/jcersj1988/100/1165/100_1165_1091/_pdf
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可