440 エレクトロマイグレーション損傷の支配パラメータを用いた表面に保護膜を有する多結晶配線の断線予測とその検証(OS01-5 電子デバイス実装・電子材料と計算力学(5))(OS01 電子デバイス実装・電子材料と計算力学)

• 笹川 和彦

  弘前大

• 長谷川 昌孝

  東北大

• 坂 真澄

  東北大

• 阿部 博之

  東北大

書誌事項

タイトル別名

• 440 Prediction of Electromigration Failure in Passivated Polycrystalline Line by Using Governing Parameter of Electromigration Damage

収録刊行物

• 計算力学講演会講演論文集

  計算力学講演会講演論文集 2001.14 (0), 483-484, 2001

  一般社団法人 日本機械学会

キーワード

• Electromigration Failure
• Governing Parameter
• Passivated Polycrystalline Line
• Failure Prediction

詳細情報

• CRID: 1390001205854513280
• NII論文ID: 110002486454
• DOI: 10.1299/jsmecmd.2001.14.483
• ISSN: 24242799
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsmecmd/2001.14/0/2001.14_483/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles