ペニング電離を利用したCo含有酸化鉄薄膜メディアの低温・高速作製法

• 山時 照章

  山口大学工学部

• 山本 節夫

  山口大学工学部

• 栗巣 普揮

  山口大学工学部

• 松浦 満

  山口大学工学部

• 中田 健一

  戸田工業株式会社

• 柿原 康男

  戸田工業株式会社

• 土井 孝紀

  戸田工業株式会社

• 田万里 耕作

  戸田工業株式会社

書誌事項

タイトル別名

• Low-Temperature and High-Speed Fabrication of Co-γFe_2O_3/NiO Thin Film Media Using Penning Ionization

抄録

Co-γFe_2O_3/NiO薄膜磁気メディアの作製プロセスの中で、CoO-Fe_3O_4薄膜を酸化処理する工程を、プラズマ中の酸素イオンを照射することで行なうことを試みた。その結果、(1)電子サイクロトロン共鳴(ECR)マイクロ波によって生成した酸素イオンの利用、(2)準励起状態にあるHe原子によって酸素分子のイオン化を促進するペニング電離効果の利用、(3)サンプルのチャージアップ対策、が有効であることがわかった。本手法では、大気中昇温による従来の酸化処理で要していた処理時間を1/500〜1/1000にあたる10秒程度に短縮でき、プロセス温度を約1/2の150°に下げることができた。

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録

  電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録 98 (103), 7-14, 1998-06-11

  一般社団法人電子情報通信学会

キーワード

• Co-γFe_2O_3
• プラズマ酸化
• 電子サイクロトロン共鳴プラズマ
• ペニング電離
• 薄膜媒体
• 低温作製

詳細情報

• CRID: 1572543027267936384
• NII論文ID: 110003186376
• NII書誌ID: AN10013050
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles