スプレー熱分解法による太陽電池を目指した化合物半導体薄膜の形成
書誌事項
- タイトル別名
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- Spray Pyrolysis Deposition of Semiconducting Thin Films for Solar Cells
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抄録
簡便な装置で高品質の薄膜が形成できるスプレー熱分解法を用い、太陽電池の光吸収層への応用を目指した半導体薄膜の形成を試みた。塩化すず(II)及びチオ尿素を含む水溶液を用い、硫化すず薄膜を形成した。同じ原料溶液を用いて、特定の形成温度及び濃度において未知の結晶相から成る薄膜を得た。この物質は新規な化合物オキシ硫化すず(Sn_2OS)であることが明らかとなった。これら二種の化合物薄膜の特性及びそれらを光吸収層に用いた太陽電池の光電変換特性を調べた。
The preparation of semiconducting thin films for solar cells has been attempted by means of a spray pyrolysis technique using simple apparatus with good productivity. The aqueous solution including tin(II) chloride and thiourea as sprayed solution was used for tin sulfide thin film. Unknown-phase thin film was obtained under the specific conditions of both the solution concentration and deposition temperature from the same starting solution for tin sulfide thin film. The unknown phase was identified as a novel compound of tin oxysulfide(Sn_2OS) with cubic crystal lattice. The physical and photovoltaic properties of these two compounds have been also investigated.
収録刊行物
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- 電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス
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電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 98 (59), 121-128, 1998-05-21
一般社団法人電子情報通信学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1570291227426445824
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- NII論文ID
- 110003200511
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- NII書誌ID
- AN10012954
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- CiNii Articles