パルスモード電気化学プロセスによる化合物半導体へのナノショットキー接触の形成と評価

• 佐藤 威友

• 岡田 浩

• 長谷川 英機

書誌事項

タイトル別名

• パルスモード デンキ カガク プロセス ニ ヨル カゴウブツ ハンドウタイ エ ノ ナノショットキー セッショク ノ ケイセイ ト ヒョウカ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 99 (21), 39-44, 1999-04-22

  東京 : 電子情報通信学会

詳細情報

• CRID: 1520572360261033984
• NII論文ID: 110003200839
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 4730544
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/4730544
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4730544
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles