極薄SiO2膜の低電圧領域における直接トンネル電流解析--多谷構造縮退と非弾性散乱の効果

• 山内 純也

• 北川 康範

• 松尾 直人

書誌事項

タイトル別名

• ゴクウス SiO2 マク ノ テイデンアツ リョウイキ ニ オケル チョクセツ トンネル デンリュウ カイセキ タタニ コウゾウ シュクタイ ト ヒダンセイ サンラン ノ コウカ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 99 (22), 71-77, 1999-04-23

  東京 : 電子情報通信学会

詳細情報

• CRID: 1520572360224651264
• NII論文ID: 110003200853
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 4730736
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4730736
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles