Siチップ上に作製したマイクロリアクトルの特性と磁界シミュレーション  [in Japanese] FEM analysis of a microreactor fabricated on Si-chip.  [in Japanese]

本文は厚膜導体と磁性薄膜の積層構成によるマイクロリアクトルの基礎特性について,有限要素法による解析結果と実験値とを対応させ,リアクトルとしての特性評価を行うものである。すなわち,15μm厚のアルミ導体膜をCo-Hf-Taアモルファス合金薄膜で上下を狭み,シリコン基板上にスパッタリング法によって作製したマイクロリアクトルのインダクタンスと等価抵抗の周波数依存性を理論的に求め,実測値と比較的良好な一致を得た。そして,リアクトルのQ値が最大となる励振周波数が存在することを明らかにした。

This paper describes the basic characteristic of a multilayered microreactor composed of thick conductor and magnetic thin film. The microreactor is fabricated monolithically by a spattering method.The analytical values of the inductance and the equivalent resistance obtained by the FEM calculation show a good agreement with the experimental ones.