MBE成長遷移金属及び希土類元素添加GaNの諸特性(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般) Physical properties of transition metal and rare earth element doped GaN grown by MBE

    • 周 逸凱 Zhou Y.K.
    • 大阪大学産業科学研究所 The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
    • 金 武成 Kim M.S.
    • 大阪大学産業科学研究所 The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
    • 木村 重哉 Kimura S.
    • 大阪大学産業科学研究所 The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
    • 崔 誠佑 Choi S.W.
    • 大阪大学産業科学研究所 The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

    • 江村 修一 Emura S.
    • 大阪大学産業科学研究所 The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
    • 朝日 一 Asahi H.
    • 大阪大学産業科学研究所 The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University

抄録

分子線エピタキシー法を用いて成長したCF、Mn、Gd、Dyの遷移金属及び希土類元素添加のGaNに対し、それらの光学、磁気特性などを研究した。遷移金属添加のGaNでは,GaCrNの方がGaMnNよりも良好な特性であり、強磁性転移温度は400K以上である。しかも,GaCrNから強力なフォトルミネセンス(PL)発光も観測され、光る高温強磁性半導体とも言える。希土類元素Gd及びDy添加のGaNにおいては、f電子の内殻遷移による発光が観察されたと同時に、GaGdNを始めとする試料からは室温以上の強磁性成分が観察された。本研究では、初めて、GaCrN/GaN/GaCrN三層構造を作製し、その磁気抵抗効果を確認した。

We have studied magnetic and optical properties of transition-metal (Cr, Mn) and rare-earth (Gd, Dy) doped GaN grown by radio frequency molecular beam epitaxy (RF-MBE). GaCrN showed the ferromagnetic characteristics at 7-400K. We observed the PL emission from GaCrN layers. GaGdN also showed the ferromagnetic characteristics at 7-400K. Sharp PL emission was observed for GaGdN due to the intra-atomic f-f-transitions. GaCrN-based ferromagnet /nonmagnet/ ferromagnet trilayer structures were grown, for the first time, by radio frequency molecular beam epitaxy, in which the magnetoresistive effect was confirmed.

収録刊行物

電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   [巻号一覧]

電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 104(357), 57-60, 2004-10-14  [この号の目次]

一般社団法人電子情報通信学会

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各種コード

  • NII論文ID(NAID) :
    110003204998
  • NII書誌ID(NCID) :
    AN10012954
  • 本文言語コード :
    JPN
  • 資料種別 :
    ART
  • ISSN :
    09135685
  • NDL 記事登録ID :
    7153537
  • NDL 雑誌分類 :
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL 請求記号 :
    Z16-940
  • 収録DB :
    CJP書誌  NDL  NII-ELS