顕微-時間分解分光法によるELO-GaNの輻射・非輻射再結合過程の評価  [in Japanese] The assessment of radiative and nonradiative recombination process in ELO-GaN using spatial-time-resolved spectroscopy  [in Japanese]

    • 泉 知明 Izumi T.
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
    • 成川 幸男 Narukawa Y.
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
    • 川上 養一 Kawakami Y.
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

    • 藤田 茂夫 Fujita Sg.
    • 京都大学大学院工学研究科電子物性工学 Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University
    • 中村 修二 Nakamura S.
    • 日亜化学工業株式会社開発部 Department of Research and Development, Nichia Chemical Industries Ltd.

Abstract

励起パルス波長266nm、空間分解能約1μm、時間分解能2psの時間・空間分解フォトルミネッセンス(PL)測定装置を開発した。この実験手法によりさまざまな貫通転位密度のGaN系半導体薄膜の発光再結合過程を評価し、室温ではどの試料においても、A自由励起子による発光が主要であるが非輻射再結合過程により律速されていることが分かった。さらに試料間で非輻射再結合寿命の比較を行うことにより、貫通転位密度と非輻射再結合寿命との間には弱い相関しか認められないことが明らかとなった。

Spatial and time-resolved spectroscopy system having laser pulse-width of 266nm, spatial resolution of a few microns and time resolution of 2ps has constructed. By means of this measurement system, recombination of carriers in GaN-based layers having different dislocation density has assessed. It was found that photoluminescence (PL) was dominated by A-free exciton and nonradiative recombination channel in each sample at room temperature. Moreover, it was found that threading dislocations do hardly affect nonradiative recombination lifetime (τ_<non-rad>) by comparing each sample.

Journal

IEICE technical report. Component parts and materials   [List of Volumes]

IEICE technical report. Component parts and materials 99(379), 7-13, 1999-10-22  [Table of Contents]

The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers

References:  7

You must have a user ID to see the references.If you already have a user ID, please click "Login" to access the info.New users can click "Sign Up" to register for an user ID.

Preview

Preview

Codes

  • NII Article ID (NAID) :
    110003226389
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID) :
    AN10012932
  • Text Lang :
    JPN
  • Article Type :
    ART
  • ISSN :
    09135685
  • NDL Article ID :
    4909953
  • NDL Source Classification :
    ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
  • NDL Call No. :
    Z16-940
  • Databases :
    CJP  NDL  NII-ELS 

Share