蒸着重合法による非線形光学用ポリユリア薄膜の作成 : 作成条件と重合-配向特性  [in Japanese] Preparation of polyurea thin films for nonlinear optical material by vapor deposition polymerization : Effects of preparation condition on polymerization and SHG characterization  [in Japanese]

DNB(p-ジアミノニトロベンゼン)とMDI(4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート)から蒸着重合法によりポリユリア薄膜を作成し、基板温度と膜の堆積過程・構造と重合、配向(SHG)特性の関係を検討した。DNBモノマの付着速度は基板温度の低下にともない増加し、MDIの付着はDNBとの反応により律速されると考えられる。また、基板温度が6℃から低温になるにつれて、膜密度が低下する。ポーリング処理開始直後にSHGは観測されるが、その後急激に減少し、分子の再蒸発が考えられる。ポーリング処理により分子の再蒸発と重合が進行する。ポーリング処理後の残留分極は室温で緩和せず安定なSHGを示した。

Aromatic polyurea (PU) films were fabricated by vapor deposition polymerization using 4,4′-diamino nitro benzene (DNB) and 4,4′-di phenylmethane diisocyanate (MDI).The relations among substrate temperature,deposition process,film structure,polimerization and SHG characteristics were studied.Although the deposition of DNB depended on substrate temperatur,that of MDI was determined the reaction with DNB.Below 6℃,the film density decreased with decreas ing temperature.During the poling process,re-evaporation of molecules and polymerization proceeded simultaneously.Drastic increase of SHG was not observed.This could be due to the NO_2 group,e.g.stereo hindrance,cancellation of dipolar moments,and so on.After the poling process,little decay of SHG were observed at 30℃.