自己集合体化技術を用いた超低誘電率多孔質シリカ膜

• 奥 良彰

• 山田 和弘

• 後藤 隆

書誌事項

タイトル別名

• ジコ シュウゴウタイカ ギジュツ オ モチイタ チョウテイユウデンリツ タコウシツ シリカ マク

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 103 (638), 41-45, 2004-02-02

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 界面活性剤
• 超低誘電率層間絶縁膜
• TMCTS
• Low-k/Cuダマシン
• self-assembly
• surfactant
• ultra low-k
• porous silica
• Low-k/Cu damascene

詳細情報

• CRID: 1520009409109604480
• NII論文ID: 110003309000
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 6888835
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6888835
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles