Si-CaF2及びCdF2-CaF2ヘテロ接合を用いたシリコン基板上共鳴トンネルダイオード

• 渡辺 正裕

• 筒井 将史

• 浅田 雅洋

書誌事項

タイトル別名

• Si CaF2 オヨビ CdF2 CaF2 ヘテロ セツゴウ オ モチイタ シリコン キバン ジョウ キョウメイ トンネルダイオード

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 99 (618), 73-78, 2000-02-10

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 弗化カルシウム
• 弗化カドミウム
• P/V比
• Resonant tunneling diode
• Silicon
• CaF2
• CdF2
• Heterostructure
• Peak to valley ratio

詳細情報

• CRID: 1520572360245214976
• NII論文ID: 110003310506
• NII論文ID: 110003225763
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 5317662
• NDL書誌ID: 5317181
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5317662
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I5317181
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles