Recent Topics : Generation of Fluorine and Chlorine Negative Ions and Etching Reaction with Si and SiO_2

• 堀池 靖浩

• 柴山 利一

• 高柳 智士

Bibliographic Information

Other Title

• フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO2とのエッチング反応
• フッソ エンソ フ イオン セイセイ ト Si SiO2 ト ノ エッチング
• 5.最近のトピックス : 5.2フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO_2とのエッチング反応 : 負イオンを見直そう(<特集>負イオン特集)
• フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO2とのエッチング反応
• 負イオン特集 ; 負イオンを見直そう
• フ イオン トクシュウ ; フ イオン オ ミナオソウ

Abstract

コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会

Journal

• プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編

  プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編 72 (11), 1168-1174, 1996-11

  名古屋 : プラズマ・核融合学会編集委員会

Keywords

• integrated circuits
• etching
• negative ion
• neutalization
• space potential
• reactivity

Details

• CRID: 1520853835183732992
• NII Article ID: 110003826633
• NII Book ID: AN10401672
• ISSN: 09187928
• NDL BIB ID: 4085474
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I4085474
• Web Site: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/10452548
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• Data Source:
  • NDL
  • NDL-Digital
  • CiNii Articles