Recent Topics : Generation of Fluorine and Chlorine Negative Ions and Etching Reaction with Si and SiO_2
Bibliographic Information
- Other Title
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- フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO2とのエッチング反応
- フッソ エンソ フ イオン セイセイ ト Si SiO2 ト ノ エッチング
- 5.最近のトピックス : 5.2フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO_2とのエッチング反応 : 負イオンを見直そう(<特集>負イオン特集)
- フッ素,塩素負イオン生成とSi,SiO2とのエッチング反応
- 負イオン特集 ; 負イオンを見直そう
- フ イオン トクシュウ ; フ イオン オ ミナオソウ
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Abstract
コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
Journal
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- プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編
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プラズマ・核融合学会誌 = Journal of plasma and fusion research / プラズマ・核融合学会編集委員会 編 72 (11), 1168-1174, 1996-11
名古屋 : プラズマ・核融合学会編集委員会
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Details 詳細情報について
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- CRID
- 1520853835183732992
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- NII Article ID
- 110003826633
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- NII Book ID
- AN10401672
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- ISSN
- 09187928
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- NDL BIB ID
- 4085474
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- Text Lang
- ja
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- NDL Source Classification
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- ZM35(科学技術--物理学)
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- Data Source
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- NDL
- NDL-Digital
- CiNii Articles