Effect Plasma Transport on Etched Profiles with Surface Topography in Diverging Field Electron Cyclotron Resonance Plasma
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- FUJIWARA N.
- ULSI Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
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- MARUYAMA Takahiro
- ULSI Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
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- YONEDA Masahiro
- ULSI Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
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- TSUKAMOTO Katsuhiro
- Kitaitami Works, Mitsubishi Electric Corporation
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- BANJO Toshinobu
- Kitaitami Works, Mitsubishi Electric Corporation
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収録刊行物
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- Jpn. J. Appl. Phys.
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Jpn. J. Appl. Phys. 33 2164-, 1994
社団法人応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1572543027247251968
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- NII論文ID
- 110003903181
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- NII書誌ID
- AA10457675
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- CiNii Articles