Multilayer Resist Profile Control in Oxygen Reactive Ion Etching Using Ethanol Gas Mixture (<Special Issue> Plasma Processing)
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- KIMURA Y.
- VLSI R&D Center, Oki Electric Industry Co., Ltd.
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- AOYAMA Ryouichi
- VLSI R&D Center, Oki Electric Industry Co., Ltd.
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- SUZUKI Seki
- VLSI R&D Center, Oki Electric Industry Co., Ltd.
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収録刊行物
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- Jpn. J. Appl. Phys.
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Jpn. J. Appl. Phys. 33 4450-, 1994
社団法人応用物理学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1574231877106949504
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- NII論文ID
- 110003903793
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- NII書誌ID
- AA10457675
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- CiNii Articles