Transport and Deposition Processes of Sputtered Particles in RF-Microwave Hybrid Sputtering Discharges (<Special Issue> Plasma Processing)
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- TUDA M.
- Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
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- ONO Kouichi
- Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
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- YUUKI Akimasa
- Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
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収録刊行物
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- Jpn. J. Appl. Phys.
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Jpn. J. Appl. Phys. 33 4473-4477, 1994
社団法人応用物理学会
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1573668927153514752
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- NII論文ID
- 110003903799
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- NII書誌ID
- AA10457675
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- 本文言語コード
- en
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- データソース種別
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- CiNii Articles