非質量分離型イオンビームデポジションによるTa拡散バリア膜の作製と評価

• 林 載元

• 裴 俊佑

• 三村 耕司

書誌事項

タイトル別名

• ヒシツリョウ ブンリガタ イオンビームデポジション ニ ヨル Ta カクサン バリア マク ノ サクセイ ト ヒョウカ

収録刊行物

• 東北大学多元物質科学研究所素材工学研究彙報 = Bulletin of the Advanced Materials Processing Building, IMRAM, Tohoku University

  東北大学多元物質科学研究所素材工学研究彙報 = Bulletin of the Advanced Materials Processing Building, IMRAM, Tohoku University 59 (1・2), 1-9, 2003-12

  仙台 : 東北大学多元物質科学研究所

キーワード

• tantalum
• diffusion barrier
• ion beam deposition
• resistivity
• substrate bias voltage
• thermal stability

詳細情報

• CRID: 1520290882423378304
• NII論文ID: 110004628167
• NII書誌ID: AA11795764
• ISSN: 13484052
• NDL書誌ID: 6895805
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I6895805
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZP41(科学技術--金属工学・鉱山工学)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles