招待講演 シリコンとhigh-kゲート絶縁膜の界面の高分解能RBS/ERD分析

• 中嶋 薫

• 趙 明

• 鈴木 基史

書誌事項

タイトル別名

• ショウタイ コウエン シリコン ト high kゲート ゼツエン マク ノ カイメン ノ コウ ブンカイノウ RBS ERD ブンセキ
• 特集:シリコン関連材料の作製と評価
• トクシュウ シリコン カンレン ザイリョウ ノ サクセイ ト ヒョウカ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 106 (417), 31-36, 2006-12-14

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• HfO2
• La2O3
• 高分解能ERD
• high-k gate dielectric
• interface
• high-resolution RBS
• high resolution ERD

詳細情報

• CRID: 1520290884451173248
• NII論文ID: 110006163353
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 8602531
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I8602531
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles