大気圧低温ＨｅプラズマによるＺｎＯ薄膜の作製における原料加熱の効果

• 鹿間 共一

  高松工業高等専門学校電気情報工学科

• 須崎 嘉文

  香川大学工学部材料創造工学科

• 江島 正毅

  香川大学工学部材料創造工学科

• 井手 泰明

  高松工業高等専門学校専攻科

• 吾妻 俊良

  大倉工業(株)研究所

• 田中 治

  大倉工業(株)研究所

• 梶谷 孝啓

  大倉工業(株)研究所

• 鯉沼 秀臣

  東京工業大学応用セラミックス研究所

書誌事項

タイトル別名

• Effect of Material Heating on Fabrication of ZnO Thin Films Using Cold He Plasma at Atmospheric Pressure
• タイキアツ テイオン He プラズマ ニ ヨル ZnO ハクマク ノ サクセイ ニ オケル ゲンリョウ カネツ ノ コウカ

抄録

Under atmospheric pressure, homogenous non-equilibrium cold plasma was generated by rf (27.12MHz) excitation of He (1700ml/min) and O₂ (0-15ml/min) gases. Bis-dipivaloylmethanato zinc (Zn(O₂C₁₁H₁₉)₂) was vaporized and carried with the He gas flow into the plasma zone to be deposited as a thin film on a glass substrate at room temperature. To assist the decomposition and oxidation of Zn (O₂C₁₁H₁₉)₂ for creation of the ZnO film, a heat treatment tube was placed between the vaporizer and the plasma torch and oxygen gas was added to the system either before or after the heat treatment. XRD, AFM, and AES analyses verified fabrication of a polycrystalline ZnO film.

収録刊行物

• 材料

  材料 54 (3), 279-283, 2005

  公益社団法人 日本材料学会

キーワード

• Zinc oxide film
• Atmospheric pressure
• Cold plasma generator
• Bis-Dipivaloylmethanato Zinc
• Helium gas
• Oxygen gas
• XRD
• AFM

詳細情報

• CRID: 1390001205419587840
• NII論文ID: 110006266486
• NII書誌ID: AN00096175
• DOI: 10.2472/jsms.54.279
• ISSN: 18807488
• ISSN: 05145163
• NDL書誌ID: 7284154
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I7284154
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可