4.4 高品質多価イオンビームの発生(4. 多価イオンの応用,<小特集>多価イオン原子過程の基礎と拡がる応用研究)  [in Japanese] 4.4 Production of High-Quality Beam of Highly Charged Ions(4. Application of Highly Charged Ions,<Special Topic Article>Fundamental Atomic Processes and Increasing Applications of Highly Charged Ions)  [in Japanese]

Abstract

多価イオンビームを電子冷却と陽電子冷却の両方を用いて減速する「電子・陽電子冷却法」が開発されつつある.まず高密度電子プラズマによって〜1eV/qまで冷却し,その後,陽電子プラズマによって環境温度まで冷却するものである.一方,多価イオンをナノビーム化する方法として「キャピラリー集束法」を開発した.細胞電位測定や細胞への注射に用いられるガラス製の注射針を加工してビーム光学素子として使用することで,ビームのナノサイズ化だけでなく,粒子密度をも上げ,さらに,角度にして数度程のビーム偏向に成功している.これらの方法により,多価イオンビームをエネルギーとサイズに関して高品質化することで,より広範な分野への多価イオンビーム応用が可能になる.

Journal

Journal of plasma and fusion research   [List of Volumes]

Journal of plasma and fusion research 83(8), 690-694, 2007-08-25  [Table of Contents]

The Japan Society of Plasma Science and Nuclear Fusion Research

References:  30

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Codes

  • NII Article ID (NAID) :
    110006381239
  • NII NACSIS-CAT ID (NCID) :
    AN10401672
  • Text Lang :
    JPN
  • Article Type :
    REV
  • ISSN :
    09187928
  • NDL Article ID :
    8929887
  • NDL Source Classification :
    ZM35(科学技術--物理学)
  • NDL Call No. :
    Z15-8
  • Databases :
    CJP  NDL  NII-ELS