Amorphous Hydrogenated Silicon Film Deposited by Reactive Electron Cyclotron Resonance Plasma(Physics, Process, Instruments & Measurements)

• Chen Wei

• Miyake Shoji

• Ariyasu Tomio

収録刊行物

• Transactions of JWRI

  Transactions of JWRI 21 (1), 23-28, 1992-06

  大阪大学溶接工学研究所

詳細情報

• CRID: 1390575727755700352
• NII論文ID: 110006486971
• NII書誌ID: AA00867058
• DOI: 10.18910/5795
• HANDLE: 11094/5795
• ISSN: 03874508
• 本文言語コード: en
• データソース種別:
  • JaLC
  • IRDB
  • CiNii Articles