He大気圧プラズマによるZnO薄膜の作製における酸素流量の効果

• 須崎 嘉文

  香川大学工学部

• 小比賀 厚夫

  香川大学大学院工学研究科

• 鹿間 共一

  高松工業高等専門学校

• 江島 正毅

  香川大学工学部

書誌事項

タイトル別名

• Effect of Oxygen Flow Rate on Fabrication of ZnO Thin Films Using Cold He Plasma at Atmospheric Pressure
• He タイキアツ プラズマ ニ ヨル ZnO ハクマク ノ サクセイ ニ オケル サンソ リュウリョウ ノ コウカ

抄録

Homogeneous nonequilibrium low temperature plasma was generated under atmospheric pressure by high voltage pulsed power (1 kV, 20 kHz) excitation of He gas or mixture of He and O₂ gases. Using this cold plasma, ZnO thin films were fabricated on glass substrate exposed to air by feeding Zn-MOPD into the plasma with He carrier gas. Dependence of O₂ gas flow rate on optical transmittance of the ZnO films and resistivity were investigated. In addition, crystallinity and microstructure of the films was studied by XRD measurement and FE-SEM observation.

収録刊行物

• 精密工学会誌

  精密工学会誌 74 (10), 1097-1100, 2008

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• ZnO thin film
• atmospheric cold plasma
• helium gas
• oxygen gas

詳細情報

• CRID: 1390282679773150848
• NII論文ID: 110006951290
• NII書誌ID: AN1003250X
• DOI: 10.2493/jjspe.74.1097
• ISSN: 1882675X
• ISSN: 09120289
• NDL書誌ID: 9678725
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I9678725
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可