21pXK-4 回折限界を超えた量子リソグラフィーの実証実験II(量子エレクトロニクス(量子光学),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理) 21pXK-4 Experimental demonstration of quantum lithography beyond diffraction limit II

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収録刊行物

  • 日本物理学会講演概要集

    日本物理学会講演概要集 62(1-2), 176, 2007-02-28

    一般社団法人日本物理学会

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    110007193520
  • NII書誌ID(NCID)
    AA11439205
  • 本文言語コード
    JPN
  • ISSN
    13428349
  • データ提供元
    NII-ELS 
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