大きな偏光分離角を有する斜め配向シリコン蒸着膜の低損失化

• 稲葉 巧

  宇都宮大学大学院工学研究科

• 白石 和男

  宇都宮大学大学院工学研究科

• 室 幸市

  宇都宮大学大学院工学研究科

• 大野 泰司

  宇都宮大学大学院工学研究科

• 依田 秀彦

  宇都宮大学大学院工学研究科

書誌事項

タイトル別名

• Loss Reduction of Obliquely Deposited Silicon Films Having a Large Polarization-Splitting Angle

抄録

21°の大きな偏光分離角を有する,斜め配向シリコン蒸着膜の低損失化を検討した.成膜時のガス圧条件の最適化とアニール処理により,散乱と吸収による透過損を抑制し,1.5dB/100μmの低損失蒸着膜を得た.

収録刊行物

• 電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス = The transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C

  電子情報通信学会論文誌. C, エレクトロニクス = The transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C 92 (3), 104-105, 2009-03-01

  一般社団法人電子情報通信学会

キーワード

• 偏光分離素子
• 柱状構造
• シリコン
• 斜め蒸着

詳細情報

• CRID: 1571417127546584448
• NII論文ID: 110007380127
• NII書誌ID: AA11412446
• ISSN: 13452827
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles
  • KAKEN