レーザアニールによるSrGa_2S_4:Eu薄膜蛍光体の作製と発光特性(発光型/非発光型ディスプレイ)

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タイトル別名
  • Preparation and CL properties of SrGa_2S_4:Eu thin film phosphors by laser annealing
  • レーザアニールによるSrGa2S4:Eu薄膜蛍光体の作製と発光特性
  • レーザアニール ニ ヨル SrGa2S4 Eu ハクマク ケイコウタイ ノ サクセイ ト ハッコウ トクセイ

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抄録

本研究ではSrGa_2S_4:Eu薄膜蛍光体の作製を行っている。作製には850℃程度の熱処理が必要であるが、通常のガラス基板では600℃以上の高温に耐えられないため熱処理の低温化が必要であり、解決策として我々はレーザアニールを用いている。以前はレーザ光源にKrFエキシマレーザ(248nm)を使用していたが、発光特性の向上が難しく、今回はNd:YAGレーザの三倍波(355nm)を用いて実験を行い、その効果を調べた。Ga_2S_3:Eu(1mol%),SrS:Eu(2mol%)の二つのペレットを二元電子ビームにより蒸着させ、その後高温プロセスとして高温熱アニール(850℃)、低温プロセスとしてプレアニール(500℃)後レーザアニールを行った。後者の方法においてもSrGa_2S_4相が形成され、CL測定においてSrGa_2S_4中のEu^<2+>戸に起因する530nmにピークを持つ緑色発光が観測された。これらのことからレーザ光の波長の選択により低温プロセスでも高輝度のSrGa_2S_4:Eu薄膜蛍光体が形成されることが分かる。10kV、60μA/cm^2の電子線励起下で18,000cd/m^2のCL輝度が得られた。これは高温プロセスに匹敵する輝度である。

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