Development of a new Polishing Method using Controlled Slurry Motion under AC. Electric Field(Series)

• 赤上 陽一

Bibliographic Information

Other Title

• 機能性流体 電界砥粒制御技術を応用したスラリー配置制御技術による研磨・加工技術
• キノウセイ リュウタイ デンカイトリュウ セイギョ ギジュツ オ オウヨウ シタ スラリー ハイチ セイギョ ギジュツ ニ ヨル ケンマ カコウ ギジュツ
• 電界砥粒制御技術を応用したスラリー配置制御技術による研磨・加工技術(<連載>機能性流体)
• 機能性流体 電界砥粒制御技術を応用したスラリー配置制御技術による研磨・加工技術
• Development of a new polishing method using controlled slurry motion under AC. electric field

Abstract

コレクション : 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会

Journal

• 日本AEM学会誌 = Journal of the Japan Society of Applied Electromagnetics and Mechanics

  日本AEM学会誌 = Journal of the Japan Society of Applied Electromagnetics and Mechanics 18 (4), 353-358, 2010-12

  東京 : 日本AEM学会

Keywords

• polishing
• slurry
• abrasives
• AC electric field
• functional fluid

Details

• CRID: 1520853832406292608
• NII Article ID: 110008007277
• NII Book ID: AN10457520
• ISSN: 09194452
• NDL BIB ID: 10952687
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/10952687
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10952687
• Web Site: http://dl.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11149442
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZM35(科学技術--物理学)
• Data Source:
  • NDL
  • NDL-Digital
  • CiNii Articles
  • KAKEN