硬X線光電子分光法によるp型GaNのドライエッチングダメージ評価

• 菊田 大悟

• 成田 哲生

• 高橋 直子

書誌事項

タイトル別名

• コウXセン コウデンシ ブンコウホウ ニ ヨル pガタ GaN ノ ドライエッチングダメージ ヒョウカ
• Study of etching-induced damage in p-type GaN by hard X-ray photoelectron spectroscopy
• レーザ・量子エレクトロニクス
• レーザ リョウシ エレクトロニクス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 110 (273), 59-62, 2010-11

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• GaN
• 硬X線光電子分光
• ドライエッチング
• エッチングダメージ
• 誘導結合プラズマ
• Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy
• HAX-PES
• dry etching
• etching-induced damage
• inductively-coupled plasma

詳細情報

• CRID: 1520009407924878592
• NII論文ID: 110008152741
• NII論文ID: 110008152405
• NII論文ID: 110008152433
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 10915409
• NDL書誌ID: 10915219
• NDL書誌ID: 10914902
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/10915409
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10915409
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/10915219
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10915219
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/10914902
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I10914902
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles