マイクロ熱プラズマジェット照射によるポーラスシリコン層上Si膜のエピタキシャル成長

• 林 将平

• 松原 良平

• 藤田 悠二

書誌事項

タイトル別名

• マイクロ ネツ プラズマジェット ショウシャ ニ ヨル ポーラスシリコンソウ ジョウ Siマク ノ エピタキシャル セイチョウ
• Epitaxial Growth of Silicon Films on Porous Silicon Underlayer by Micro-Thermal-Plasma-Jet Irradiation
• 有機エレクトロニクス
• ユウキ エレクトロニクス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 112 (19), 63-66, 2012-04

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• マイクロ熱プラズマジェット
• ポーラスシリコン
• エピタキシャル成長
• Micro-Thermal-Plasma-Jet
• Porous Silicon
• Epitaxial Growth

詳細情報

• CRID: 1520290884038585856
• NII論文ID: 110009564372
• NII論文ID: 110009564309
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 023620276
• NDL書誌ID: 023619967
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/023620276
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I023620276
• Web Site: http://id.ndl.go.jp/bib/023619967
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I023619967
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles