26aKF-11 強磁性-非磁性電極を用いた2端子法における高ドープn型Si中のスピンドリフト速度の定量的評価(スピントロニクス(スピン流),領域3(磁性,磁気共鳴))

• 亀野 誠

  阪大院基礎工

• 安藤 裕一郎

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  阪大院基礎工

• 白石 誠司

  阪大院基礎工

• 小池 勇人

  TDK株式会社

• 佐々木 智生

  TDK株式会社

• 及川 亨

  TDK株式会社

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術センター

書誌事項

タイトル別名

• Investigation of spin-drift velocity in Highly-doped Si by using a two-terminal Method

収録刊行物

• 日本物理学会講演概要集

  日本物理学会講演概要集 68.2.3 (0), 402-, 2013

  一般社団法人 日本物理学会

詳細情報

• CRID: 1390282680968994816
• NII論文ID: 110009756698
• DOI: 10.11316/jpsgaiyo.68.2.3.0_402_2
• ISSN: 21890803
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles