29p-FC-5 量子化ホールステップの幅(半導体(表面・界面・超格子・MOS))

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  • CRID
    1390001206200858240
  • NII論文ID
    110009788017
  • DOI
    10.11316/jpsgaiyod.41.2.0_143_1
  • ISSN
    24331139
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles

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