ダブルパターニングにおけるリソグラフィECOのためのパターン局所修正法

• 宮辺 祐太郎

• 高橋 篤司

• 松井 知己

書誌事項

タイトル別名

• ダブルパターニング ニ オケル リソグラフィ ECO ノ タメ ノ パターン キョクショ シュウセイホウ
• Local Pattern Modification Method for Lithographical ECO in Double Patterning
• VLSI設計技術
• VLSI セッケイ ギジュツ

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113 (454), 87-92, 2014-03

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• ダブルパターニング
• 最大カット問題
• 半正定値計画法
• Double Patterning
• Maximum Cut Problem
• Semi-Denite Programming

詳細情報

• CRID: 1520009408697849472
• NII論文ID: 110009862573
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 025409744
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025409744
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles