B-1-52 シリコンプロセスを用いた350GHz帯積層薄板接合導波路アンテナの試作(B-1.アンテナ・伝搬B(アンテナ一般),一般セッション)

• 広川 二郎

  東京工業大学電気電子工学専攻

• 戸村 崇

  東京工業大学電気電子工学専攻

• 南方 佑介

  大阪大学システム創成専攻

• 永妻 忠夫

  大阪大学システム創成専攻

• 瀬戸 弘之

  京都大学ナノテクノロジーハブ拠点

• 井上 良幸

  京都大学ナノテクノロジーハブ拠点

• 加藤 邦男

  早稲田大学ナノ理工学研究機構

• 齋藤 美紀子

  早稲田大学ナノ理工学研究機構

書誌事項

タイトル別名

• B-1-52 Fabrication of Plate-laminated Waveguide Antennas for 350GHz band by Silicon Process

収録刊行物

• 電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集

  電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集 2014 (1), 52-, 2014-09-09

  一般社団法人電子情報通信学会

詳細情報

• CRID: 1574231877575112448
• NII論文ID: 110009882763
• NII書誌ID: AN10489017
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • CiNii Articles