YAlO₃単結晶基板の表面処理条件の探索とCr₂O₃薄膜の結晶成長

• 林 佑太郎

• 中村 拓未

• 隅田 貴士

書誌事項

タイトル別名

• YAlO ₃ タンケッショウ キバン ノ ヒョウメン ショリ ジョウケン ノ タンサク ト Cr ₂ O ₃ ハクマク ノ ケッショウ セイチョウ
• Search of the surface treatment conditions of a YAlO₃ single-crystal substance, and crystal growth of Cr₂O₃ thin film
• 有機エレクトロニクス 材料デバイスサマーミーティング
• ユウキ エレクトロニクス ザイリョウ デバイスサマーミーティング

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114 (96), 73-77, 2014-06-20

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• Cr₂O₃
• 薄膜
• YAlO₃
• 熱処理
• films
• Heat treatment

詳細情報

• CRID: 1520009407644298240
• NII論文ID: 110009925218
• NII論文ID: 110009925415
• NII論文ID: 110009925299
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 025590990
• NDL書誌ID: 025590621
• NDL書誌ID: 025590828
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590990
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590621
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590828
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles