フレキシブル透明TFTに向けた低温プロセスZnO薄膜の結晶性評価

• 渡邉 拓

• Adie Bin Mohd Khafe

• 山内 博

Bibliographic Information

Other Title

• フレキシブル トウメイ TFT ニ ムケタ テイオン プロセス ZnO ハクマク ノ ケッショウセイ ヒョウカ
• Crystalline Evaluation of ZnO Thin Film Fabricated by Low-temperature Process for Flexible Transparent TFT
• 機構デバイス 材料デバイスサマーミーティング
• キコウ デバイス ザイリョウ デバイスサマーミーティング

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114 (94), 5-9, 2014-06-20

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• 塗布型ZnO
• 透明ZnOトランジスタ
• UV/O₃アシスト熱処理法
• ZnO結晶性評価
• wet process
• transparent ZnO-TFT
• UV/O₃ assisted thermal treatment
• crystalline evaluation

Details

• CRID: 1520009409098428160
• NII Article ID: 110009925228
• NII Article ID: 110009925287
• NII Article ID: 110009925206
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 025590374
• NDL BIB ID: 025590914
• NDL BIB ID: 025590671
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590374
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590914
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590671
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles