触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いてサファイア基板上に堆積した窒素ドープZnO薄膜の成長

• 大橋 優樹

• 叶内 慎吾

• 山口 直也

Bibliographic Information

Other Title

• ショクバイ ハンノウ セイセイ コウエネルギー H ₂ O オ モチイテ サファイア キバン ジョウ ニ タイセキ シタ チッソ ドープ ZnO ハクマク ノ セイチョウ
• Epitaxial growth of nitrogen-doped ZnO thin films on a-plane sapphire substrates using high-energy H₂O generated by a catalytic reaction
• 有機エレクトロニクス 材料デバイスサマーミーティング
• ユウキ エレクトロニクス ザイリョウ デバイスサマーミーティング

Journal

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114 (96), 49-53, 2014-06-20

  東京 : 電子情報通信学会

Keywords

• ZnO
• 触媒反応
• 高エネルギーH₂O
• X線回折
• PLスペクトル
• SIMS
• catalytic reaction
• high-energy H₂O
• x-ray diffraction
• PL spectra

Details

• CRID: 1520009407901814016
• NII Article ID: 110009925295
• NII Article ID: 110009925214
• NII Article ID: 110009925411
• NII Book ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL BIB ID: 025590967
• NDL BIB ID: 025590769
• NDL BIB ID: 025590559
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590967
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590769
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I025590559
• Text Lang: ja
• NDL Source Classification:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• Data Source:
  • NDL
  • CiNii Articles