OS1103 ナノスケールの応力特異場を有するき裂の伝ぱ基準

• 芦田 晋作

  京都大学大学院工学研究科

• 澄川 貴志

  京都大学

• 北村 隆行

  京都大学

書誌事項

タイトル別名

• OS1103 Criterion of Crack Propagation Induced by Nanoscale Singular Stress Field

抄録

In order to investigate the mechanical factors dominating crack propagation induced by nano-meter-scale singular stress field, crack propagation experiments are carried out using silicon (Si) single crystal specimens, which possess precracks with nano-meter-scale singular stress field. The minimum size of singular stress field among specimens is 65 nm. Critical value of stress intensity factor at fracture, K_<IC>, is evaluated to be 1.05〜1.30 MPa・m^<1/2>. The result indicates that the fracture mechanics concept based on continuum mechanics is still valid.

収録刊行物

• M&M材料力学カンファレンス

  M&M材料力学カンファレンス 2014 (0), _OS1103-1_-_OS1103-3_, 2014

  一般社団法人 日本機械学会

キーワード

• Crack Propagation
• Nanoscale
• Singular Stress Field
• Single Crystal
• Silicon

詳細情報

• CRID: 1390001205875603584
• NII論文ID: 110009939594
• DOI: 10.1299/jsmemm.2014._os1103-1_
• ISSN: 24242845
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jsmemm/2014/0/2014__OS1103-1_/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可