軟X線源を用いたSiOx中nc-Siの形成

• 草壁 史

• 平野 翔大

• 部家 彰

書誌事項

タイトル別名

• ナンXセン ゲン オ モチイタ SiOx チュウ nc-Si ノ ケイセイ
• Formation of nc-Si in SiOx by Soft X-ray Irradiation
• シリコン材料・デバイス
• シリコン ザイリョウ ・ デバイス

収録刊行物

• 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報

  電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114 (360), 99-102, 2014-12-12

  東京 : 電子情報通信学会

キーワード

• 軟X線
• ナノ結晶Si
• 低温結晶化
• ラマン分光法
• Soft X-ray
• nc-Si
• Low-temperature crystallization
• Raman scattering

詳細情報

• CRID: 1520009407955076608
• NII論文ID: 110009977553
• NII論文ID: 110009977672
• NII書誌ID: AA1123312X
• ISSN: 09135685
• NDL書誌ID: 026035296
• NDL書誌ID: 026034641
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I026035296
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I026034641
• 本文言語コード: ja
• NDL 雑誌分類:
  • ZN33(科学技術--電気工学・電気機械工業--電子工学・電気通信)
• データソース種別:
  • NDL
  • CiNii Articles