Replica^2：模写過程の模倣による初学者のための描画練習支援システムの提案

• 上岡, 勇介

• 高島, 健太郎

• 西本, 一志

抄録

絵の練習方法の1つとして模写がある．この練習では，作品の制作プロセスを推察することが重要である．しかし，このような推察力が十分でない絵画制作初級者は，模写から学習効果を十分に得ることが難しい．従来多くの描画学習支援システムが提案されているが，具体的にどのような制作プロセスを踏めば作品を制作することができるかを教示する機能を有する事例は見当たらない．そこで，絵画制作の中・上級者による模写過程を記録し，これを初級者に提供して模倣させる模写による描画練習支援システムReplica^2を提案する．提案手法の基礎的な有用性を検証する被験者実験を実施した結果，本手法によって被験者は中・上級者の模写過程を模倣した際に得られた気づきをもとに，自身の模写過程を改善している可能性があることが示唆された．

identifier:https://dspace.jaist.ac.jp/dspace/handle/10119/16255

収録刊行物

• インタラクション2019論文集

  インタラクション2019論文集 1B-39 336-340, 2019-02-27

  情報処理学会

詳細情報

• CRID: 1050574047132005632
• NII論文ID: 120006845983
• Web Site: http://hdl.handle.net/10119/16255
• 本文言語コード: ja
• 資料種別: conference paper
• データソース種別:
  • IRDB
  • CiNii Articles