カルーセルスパッタ法で作製したＣｏＦｅ系ＧＨｚ帯磁性薄膜の異方性入射効果と原子配列

• 今泉 良一

  崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所

• 宗像 誠

  崇城大学エネルギーエレクトロニクス研究所

• 大越 正敏

  九州工業大学情報工学部

• 槙 孝一郎

  住友金属鉱山（株）

書誌事項

タイトル別名

• Effect of Anisotropic Incidence and Atomic Arrangement of CoFe System Magnetic Thin Films for the GHz Frequency in the Carousel Sputtering Method
• カルーセルスパッタホウ デ サクセイ シタ CoFeケイ GHz タイジセイ ハクマク ノ イホウセイ ニュウシャ コウカ ト ゲンシ ハイレツ

抄録

To increase the uniaxial- magnetic anisotropy in thin-film materials is the key issue for the micro-magnetic devices driven in a GHz frequency. It is known that an especially large uniaxial- magnetic anisotropy was induced only by the carousel sputtering method. In this paper, an atomic deposition process of the CoFeB and CoFe films were analyzed by using simulation of Kinetic Theory of Gases. The result exhibited that the sputtered particles had remarkably anisotropic incidence to the substrate leading to different atomic distances with respect to the incident direction, which results in a magnetic elastic effect. These sputtered particles with the anisotropic incidence give rise to a main cause of the higher uniaxial- magnetic anisotropy of the films.

収録刊行物

• 電気学会論文誌．　Ａ

  電気学会論文誌．　Ａ 131 (7), 499-504, 2011

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• カルーセルスパッタ法
• CoFeB膜
• CoFe膜
• 一軸異方性磁界
• 異方性入射効果

詳細情報

• CRID: 1390001204599321344
• NII論文ID: 130000754192
• NII論文ID: 10030522310
• NII書誌ID: AN10136312
• DOI: 10.1541/ieejfms.131.499
• ISSN: 13475533
• ISSN: 03854205
• NDL書誌ID: 11166350
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I11166350
• Web Site: http://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms/131/7/131_7_499/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可