開口制限光ファイバーマトリックスを用いた投影露光リソグラフィ

• 山澤 佳嗣

  東京電機大学　工学部　精密機械工学科

• 宮崎 晋

  東京電機大学　工学部　精密機械工学科

• 堀内 敏行

  東京電機大学　工学部　精密機械工学科

書誌事項

タイトル別名

• Projection Exposure Lithography Using a Optical Fiber Matrix with a Apeture Limitting Plate

抄録

プラスチック光ファイバーを直線状に並べて射出口の直径を微細開口で制限し、パタンの微細化を図った。開口制限板は微鏡用カバーガラスにアルミニウムを真空蒸着し、現像液にアルミニウムが溶ける性質を利用して製作した。ファイバーの細径化に制限があっても1-2μmの微細パタンができることを示す。

収録刊行物

• 精密工学会学術講演会講演論文集

  精密工学会学術講演会講演論文集 2003S (0), 144-144, 2003

  公益社団法人 精密工学会

キーワード

• 光リソグラフィ
• マトリックス投影露光
• 光ファイバー
• 開口制御板

詳細情報

• CRID: 1390001205649902464
• NII論文ID: 130004654787
• DOI: 10.11522/pscjspe.2003s.0.144.0
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可