XPS分析時のイオン・電子デュアルビーム中和における最適照射条件の検討

• 井上 りさよ

  アルバック・ファイ

• 石崎 逸子

  アルバック・ファイ

• 眞田 則明

  アルバック・ファイ

• 鈴木 峰晴

  アルバック・ファイ

書誌事項

タイトル別名

• XPS Study on the suitable condition of ion/electron dual beam neutralization

抄録

荷電粒子を利用する表面分析において、低速電子と低速イオンを利用したデュアルビーム中和が有効であり、XPSなどに利用さてている。測定ダメージに敏感な試料をXPS測定する場合について、最適な中和ビーム照射条件を検討したので結果を報告するとともに、応用例を紹介する。

収録刊行物

• 表面科学講演大会講演要旨集

  表面科学講演大会講演要旨集 26 (0), 289-289, 2006

  公益社団法人 日本表面科学会

詳細情報

• CRID: 1390282680621980288
• NII論文ID: 130004673558
• DOI: 10.14886/sssj.26.0.289.0
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可