クラスターイオンビーム技術の最近の進展—ナノ加工からバイオ材料評価まで—

DOI Web Site Web Site 参考文献38件
  • 松尾 二郎
    京都大学大学院工学研究科　附属量子理工学教育研究センター JST 先端計測分析技術・機器開発プログラム
  • 藤井 麻樹子
    京都大学大学院工学研究科　附属量子理工学教育研究センター
  • 瀬木 利夫
    JST 先端計測分析技術・機器開発プログラム 京都大学大学院工学研究科　原子核工学専攻
  • 青木 学聡
    JST 先端計測分析技術・機器開発プログラム 京都大学大学院工学研究科　電子工学専攻

書誌事項

タイトル別名
  • Recent Developments of Cluster Ion Beam —From Nano-fabrication to Analysis of Bio-materials—
  • クラスターイオンビーム技術の最近の進展 : ナノ加工からバイオ材料評価まで
  • クラスターイオンビーム ギジュツ ノ サイキン ノ シンテン : ナノ カコウ カラ バイオ ザイリョウ ヒョウカ マデ
  • Recent Developments of Cluster Ion Beam —From Nano-fabrication to Analysis of Bio-materials—

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抄録

 Recent progress of cluster ion beam was overviewed. Various applications, such as nano-fabrication and biological material analysis, have been developed by using cluster effects, which are due to high-density and multiple collision between cluster ion and surface. Control of size and energy of cluster beam is essential. High speed etching with high anisotropy is realized with neutral cluster beam, which has very low energy/atom. Both molecular depth profiling of organic multilayer and high resolution molecular imaging were demonstrated by using cluster ions. These new XPS and SIMS techniques provide new opportunities for polymer, molecular electronics, biological materials and life science.<br>

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