放射光光電子分光で観た酸素分子によるNi(001)表面酸化膜形成の反応機構

• 寺岡 有殿

  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

• 岩井 優太郎

  兵庫県立大学

書誌事項

タイトル別名

• Chemical Reaction Mechanisms of Oxide Layer Formation via Oxygen Molecule at Ni(001) Surface as Observed by Synchrotron Photoemission Spectroscopy
• ホウシャコウ コウデンシ ブンコウ デ ミタ サンソ ブンシ ニ ヨル Ni(001)ヒョウメン サンカマク ケイセイ ノ ハンノウ キコウ

抄録

Chemical reaction dynamics on the oxide formation at the Ni(001) surface has been studied via two quantum beams (synchrotron radiation and supersonic molecular beam). It was revealed that NiO layers formation took place at an oxygen coverage less than 0.5 ML depending on translational energy of oxygen molecules. Although dissociative adsorption of oxygen takes place via physical adsorption at lower translational energy than 0.06 eV, direct activated adsorption occurs at higher energy. Potential energy barrier height is 0.3 eV for the first barrier and 1.6 eV for the second one, respectively.

収録刊行物

• 電気学会論文誌Ｃ（電子・情報・システム部門誌）

  電気学会論文誌Ｃ（電子・情報・システム部門誌） 137 (3), 394-399, 2017

  一般社団法人 電気学会

キーワード

• 放射光
• 光電子分光
• 超音速分子線
• Ni(001)
• 酸化

詳細情報

• CRID: 1390282679586256640
• NII論文ID: 130005398429
• NII書誌ID: AN10065950
• DOI: 10.1541/ieejeiss.137.394
• ISSN: 13488155
• ISSN: 03854221
• NDL書誌ID: 028034512
• Web Site: https://ndlsearch.ndl.go.jp/books/R000000004-I028034512
• Web Site: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/137/3/137_394/_pdf
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • NDL
  • Crossref
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可