レジストマイクロニードルパターンのための灌流現像システム

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抄録

フォトリソグラフィを用いてマイクロニードルを作成する場合、フォトレジストの膜厚が非常に大きくなるため、レジストのコーティングおよび現像に注意が必要である。本研究ではディスペンサロボットを用いて基板上の任意の位置に膜厚500μm以上でレジストをコートする方法、ならびにリングポンプを用いた現像状態をその場観察可能な灌流現像システムを開発した。

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詳細情報 詳細情報について

  • CRID
    1390282680634600192
  • NII論文ID
    130006434697
  • DOI
    10.11522/pscjspe.2017a.0_925
  • 本文言語コード
    ja
  • データソース種別
    • JaLC
    • CiNii Articles
  • 抄録ライセンスフラグ
    使用不可

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