レジストマイクロニードルパターンのための灌流現像システム
抄録
フォトリソグラフィを用いてマイクロニードルを作成する場合、フォトレジストの膜厚が非常に大きくなるため、レジストのコーティングおよび現像に注意が必要である。本研究ではディスペンサロボットを用いて基板上の任意の位置に膜厚500μm以上でレジストをコートする方法、ならびにリングポンプを用いた現像状態をその場観察可能な灌流現像システムを開発した。
収録刊行物
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- 精密工学会学術講演会講演論文集
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精密工学会学術講演会講演論文集 2017A (0), 925-926, 2017
公益社団法人 精密工学会
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詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1390282680634600192
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- NII論文ID
- 130006434697
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- 本文言語コード
- ja
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- データソース種別
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- JaLC
- CiNii Articles
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- 抄録ライセンスフラグ
- 使用不可