<b>大電力パルススパッタリング法におけるイオン化粒子が微細孔内側面のAl膜厚分布に及ぼす影響</b>

• 小宮 英敏

  首都大SD

• 清水 徹英

  首都大SD

• Ana Chaar

  Linkoping大IFM

• 寺西 義一

  都立産技研

• 楊 明

  首都大SD

書誌事項

タイトル別名

• <b>Effect of ionized species on thickness distribution of Al films on inner-wall of small hole deposited by HiPIMS</b>

抄録

これまで、ミリメートルオーダーの入口寸法を持つ細管内壁への均一化学組成被覆を目的として、低温成膜が可能な大電力パルスマグネトロンスパッタリング法による成膜方法の検討を行ってきた。今回、細管内におけるスパッタ粒子の輸送過程を明らかにするためにプラズマ中のイオン／中性粒子比に着目した。投入電力およびパルス幅一定の下、パルスピーク電流密度が異なる条件で細管内にAl成膜を行い膜厚分布の比較評価を実施した。

収録刊行物

• 表面科学学術講演会要旨集

  表面科学学術講演会要旨集 2018 (0), 210-, 2018

  公益社団法人 日本表面真空学会

詳細情報

• CRID: 1390564238046699392
• NII論文ID: 130007519187
• DOI: 10.14886/sssj2008.2018.0_210
• 本文言語コード: ja
• データソース種別:
  • JaLC
  • CiNii Articles
• 抄録ライセンスフラグ: 使用不可