Morphology of hydrogen-terminated Si(111) and Si(100) surfaces upon etching in HF and buffered-HF solutions
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収録刊行物
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- Surface Science
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Surface Science 269-270 867-878, 1992-05
Elsevier BV
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1362825893668057344
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- NII論文ID
- 30004067716
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- NII書誌ID
- AA00853803
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- ISSN
- 00396028
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- データソース種別
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- Crossref
- CiNii Articles