Vacuum-UV influenced design of polymers and dissolution inhibitors for next generation photolithography
収録刊行物
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- Journal of Fluorine Chemistry
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Journal of Fluorine Chemistry 122 (1), 17-26, 2003-07
Elsevier BV
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キーワード
詳細情報 詳細情報について
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- CRID
- 1360581248266155008
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- NII論文ID
- 30004665346
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- ISSN
- 00221139
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- データソース種別
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- Crossref
- CiNii Articles