The copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid as a ansitive resist for deep-etch X-ray lithography

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詳細情報

  • CRID
    1572261551309866880
  • NII論文ID
    30030268670
  • DOI
    10.1007/bf02739529
  • データソース種別
    • CiNii Articles

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